文/北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司西安分部 潘紅

　　“限制性要求（Restriction Requirement）”又稱為“限縮要求”，是美國(guó)專利申請(qǐng)審查過(guò)程中經(jīng)常遇到的一種特有的審查意見(jiàn)。當(dāng)美國(guó)審查員認(rèn)為一件申請(qǐng)中包含多組彼此獨(dú)立（independent）且可區(qū)分的（distinct）權(quán)利要求時(shí)，經(jīng)常會(huì)針對(duì)這多個(gè)組的權(quán)利要求提出“限制性要求”，以減輕后續(xù)的審查負(fù)擔(dān)。

　　一、限制性要求

　　37 CFR 1.142 Requirement for restriction.

　　（a）If two or more independent and distinct inventions are claimed in a single application, the examiner in an Office action will require the applicant in the reply to that action to elect an invention to which the claims will be restricted, this official action being called a requirement for restriction (also known as a requirement for division). Such requirement will normally be made before any action on the merits; however, it may be made at any time before final action.

　　（b）Claims to the invention or inventions not elected, if not canceled, are nevertheless withdrawn from further consideration by the examiner by the election, subject however to reinstatement in the event the requirement for restriction is withdrawn or overruled.

　　美國(guó)專利審查中的“限制性要求”與中國(guó)的“單一性”在審查方式，法律依據(jù)以及答復(fù)策略方面都截然不同的。美國(guó)審查員在發(fā)出“限制性要求”的審查意見(jiàn)時(shí)具有很大的自由裁量權(quán)，甚至無(wú)需基于任何實(shí)質(zhì)審查和檢索分析，僅在其認(rèn)為該美國(guó)申請(qǐng)涉及幾組不同類型的權(quán)利要求時(shí)，即可主觀判斷會(huì)增加其“檢索負(fù)擔(dān)”而要求申請(qǐng)人進(jìn)行選擇。一般情況下，“限制性要求”的審查意見(jiàn)會(huì)在第一次審查意見(jiàn)（Non-final office action）之前單獨(dú)發(fā)出，但在后續(xù)的審查階段，也有可能會(huì)發(fā)出“限制性要求”的審查意見(jiàn)。

　　在申請(qǐng)中存在相互獨(dú)立（Independent）或可區(qū)分（distinct）的多組權(quán)利要求，且對(duì)這多組權(quán)利要求進(jìn)行審查會(huì)給審查員帶來(lái)嚴(yán)重的審查負(fù)擔(dān)時(shí)，審查員才會(huì)發(fā)出“限制性要求”審查意見(jiàn)。

　　限制性要求主要分為兩類：發(fā)明的限制要求和“子類”的選擇要求。前者需要申請(qǐng)人在獨(dú)立的權(quán)利要求組之間進(jìn)行選擇，例如，產(chǎn)品及其制造方法；后者要求申請(qǐng)人選擇具體的實(shí)施例對(duì)應(yīng)的一個(gè)子類。

　　二、“限制性要求”審查意見(jiàn)答復(fù)策略

　　在答復(fù)“限制性要求”審查意見(jiàn)時(shí)，申請(qǐng)人必須選擇一組發(fā)明/子類對(duì)應(yīng)的權(quán)利要求，并且可以在選擇的同時(shí)進(jìn)行反駁以便在所選擇的發(fā)明授權(quán)時(shí)請(qǐng)求重新加入撤回的權(quán)利要求。由于“限制性要求”發(fā)出的原因在于不同的發(fā)明的審查帶來(lái)的審查負(fù)擔(dān)，因此，可以將反駁重點(diǎn)側(cè)重在沒(méi)有增加審查員的審查負(fù)擔(dān)方面，而不建議對(duì)發(fā)明的一些技術(shù)特征進(jìn)行詳細(xì)闡述，以避免對(duì)后續(xù)審查甚至訴訟階段帶來(lái)負(fù)面的嚴(yán)重影響。

　　三、發(fā)明的限制要求和“子類”的選擇要求兩類限制性要求的答復(fù)方式

　　筆者以實(shí)踐中的兩個(gè)案例來(lái)分別就上述兩類限制性要求的答復(fù)方式進(jìn)行闡釋。

　　1、發(fā)明的限制要求

　　例如，產(chǎn)品及其制造方法，裝置及其包括裝置的產(chǎn)品，以及產(chǎn)品及其使用方法等類似的權(quán)利要求撰寫(xiě)方式很有可能收到限制性選擇要求。例如，對(duì)于產(chǎn)品及其制造方法，審查員會(huì)認(rèn)為這兩組權(quán)利要求是可區(qū)分的，即，方法可以用于制造其他產(chǎn)品，或者產(chǎn)品可以通過(guò)其他方法來(lái)制造。

　　這時(shí)候，建議申請(qǐng)人根據(jù)自身需要來(lái)選擇其中最重要的一組權(quán)利要求。如果申請(qǐng)人沒(méi)有特別需求的話，則建議選擇范圍較小（即，包含特征較多）的一組權(quán)利要求，以使得增大授權(quán)的可能性，并且便于在授權(quán)后重新加入撤回的權(quán)利要求。例如，在產(chǎn)品及其制造方法這兩組權(quán)利要求中，由于產(chǎn)品包含更具化的特征，因此，建議申請(qǐng)人選擇產(chǎn)品權(quán)利要求。如此，一旦產(chǎn)品權(quán)利要求授權(quán)，則可以請(qǐng)求將方法權(quán)利要求重新加入進(jìn)來(lái)。

　　例如，下述申請(qǐng)的權(quán)利要求即需要進(jìn)行發(fā)明的限制性選擇。

　　1.一種晶圓結(jié)構(gòu)的制造方法，其特征在于，包括：

　　提供晶圓鍵合結(jié)構(gòu)，所述晶圓鍵合結(jié)構(gòu)包括第一晶圓和第二晶圓，所述第一晶圓的正面鍵合至所述第二晶圓的正面，所述第一晶圓包括第一襯底以及第一襯底上的介質(zhì)層以及所述介質(zhì)層上的互連層；

　　從所述第一晶圓的背面形成貫穿所述第一襯底的開(kāi)口；

　　在所述開(kāi)口下的介質(zhì)層中形成凹凸結(jié)構(gòu)，所述凹凸結(jié)構(gòu)包括間隔排布的凹部和凸部，且至少部分凹部貫穿至所述互連層；

　　進(jìn)行所述凹凸結(jié)構(gòu)的填充，以在所述凹凸結(jié)構(gòu)上形成襯墊，所述襯墊具有與所述凹凸結(jié)構(gòu)相同的凹凸排布。

　　......

　　7.一種芯片結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

　　芯片鍵合結(jié)構(gòu)，

　　所述芯片鍵合結(jié)構(gòu)包括第一芯片和第二芯片，所述第一芯片的正面鍵合至所述第二芯片的正面，所述第一芯片包括第一襯底以及第一襯底上的介質(zhì)層以及所述介質(zhì)層上的互連層；

　　從所述第一芯片的背面貫穿所述第一襯底的開(kāi)口；

　　所述開(kāi)口下的介質(zhì)層中的凹凸結(jié)構(gòu)，所述凹凸結(jié)構(gòu)的凹部和凸部間隔排布，且至少部分凹部貫穿至所述互連層；

　　填充所述凹凸結(jié)構(gòu)且位于所述凹凸結(jié)構(gòu)上的襯墊，所述襯墊具有與所述凹凸結(jié)構(gòu)相同的凹凸排布。

　　8.一種晶圓結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括晶圓鍵合結(jié)構(gòu)，所述晶圓鍵合結(jié)構(gòu)包括陣列排布的如權(quán)利要求7所述的芯片結(jié)構(gòu)。

　　審查員指出第一組（權(quán)利要求1-6）的方法可以用于制造其他的產(chǎn)品，而第二組（權(quán)利要求7-8）的產(chǎn)品可以有其他的方法來(lái)制造。

　　針對(duì)上述申請(qǐng)的限制性選擇要求，如果申請(qǐng)人沒(méi)有特殊要求，優(yōu)選選擇產(chǎn)品權(quán)利要求，并進(jìn)行反駁。待后續(xù)產(chǎn)品權(quán)利要求授權(quán)時(shí)，可以請(qǐng)求重新加入未選擇的方法權(quán)利要求。

　　不過(guò)，這里需要注意的是，如果申請(qǐng)人有分案的打算，則建議僅進(jìn)行選擇而不建議進(jìn)行反駁。如果進(jìn)行反駁的話，在后續(xù)提交分案申請(qǐng)之后，審查員有可能會(huì)撤回限制性要求審查意見(jiàn)，而造成重復(fù)授權(quán)的另一問(wèn)題，從而對(duì)后續(xù)專利授權(quán)、許可等造成不必要的負(fù)面影響。

　　另外，也可以選擇修改并進(jìn)行反駁的答復(fù)方式。即將其中的一組權(quán)利要求修改成與另一組權(quán)利要求特征完全對(duì)應(yīng)，甚至是這兩組權(quán)利要求都需要一定程序的修改。在選擇這種答復(fù)思路時(shí)，申請(qǐng)人需要更加謹(jǐn)慎，因?yàn)樵诋?dāng)前階段過(guò)度的修改權(quán)利要求，會(huì)因?yàn)榫窒抻诳朔拗菩砸蠖^(guò)多的限定了發(fā)明，這只考慮了眼前的局部的問(wèn)題，從長(zhǎng)遠(yuǎn)看并不能準(zhǔn)確地把握住實(shí)質(zhì)，也不能很好地控制審查費(fèi)用、周期、有其他關(guān)聯(lián)申請(qǐng)時(shí)的風(fēng)險(xiǎn)。

　　2、“子類”的選擇要求

　　當(dāng)一件申請(qǐng)包含一個(gè)一般性（generic）權(quán)利要求和多個(gè)彼此獨(dú)立或可區(qū)分的子類對(duì)應(yīng)的從屬權(quán)利要求時(shí)，通常需要對(duì)其中的一類進(jìn)行選擇。一般地，一般性權(quán)利要求即規(guī)定發(fā)明的必要技術(shù)特征或者這些子類的共同技術(shù)特征的權(quán)利要求，而每個(gè)子類通常包含一般性權(quán)利要求的下位實(shí)施例所對(duì)應(yīng)的特征或進(jìn)一步限定。這種情況下，審查員可能需要對(duì)這些下位實(shí)施例對(duì)應(yīng)的不同特征均進(jìn)行檢索，從而會(huì)造成嚴(yán)重的審查負(fù)擔(dān)。因此，申請(qǐng)人需要選擇其中的一類權(quán)利要求來(lái)進(jìn)行審查并進(jìn)行反駁。

　　在這種情況下，優(yōu)選建議申請(qǐng)人嘗試使得這些子類的一般性權(quán)利要求獲得授權(quán)，從而未選擇的子類可以通過(guò)請(qǐng)求來(lái)重新加入。

　　例如，子類的限制性選擇審查意見(jiàn)中，審查員往往通過(guò)附圖來(lái)劃分不同的子類，每個(gè)子類對(duì)應(yīng)一個(gè)實(shí)施例。例如：

　　在這種情況下，申請(qǐng)人可以通過(guò)結(jié)合附圖確定每項(xiàng)權(quán)利要求所對(duì)應(yīng)的附圖，從而確定選擇不同的子類時(shí)，可以選擇到哪些權(quán)利要求。最終，根據(jù)申請(qǐng)人的需求來(lái)選擇相應(yīng)的子類進(jìn)行審查。如果最終一般性權(quán)利要求授權(quán)，未選擇的權(quán)利要求可以重新加入進(jìn)來(lái)。如果一般性權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求授權(quán)，也可以重新加入那些沒(méi)有沖突的權(quán)利要求。

　　例如，針對(duì)上述限制性要求的審查意見(jiàn)，申請(qǐng)人對(duì)權(quán)利要求書(shū)做如下分析。權(quán)利要求如下：

　　1.一種有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于，包括：

　　顯示區(qū)和周?chē)姆秋@示區(qū)；

　　襯底基板；

　　設(shè)置在所述襯底基板上的驅(qū)動(dòng)器件層、發(fā)光器件層，所述驅(qū)動(dòng)器件層和所述發(fā)光器件層位于所述顯示區(qū)；所述驅(qū)動(dòng)器件層包括多個(gè)薄膜晶體管，所述發(fā)光器件層包括多個(gè)有機(jī)發(fā)光二極管；

　　封裝層，所述封裝層覆蓋所述發(fā)光器件層；

　　所述非顯示區(qū)包括靜電釋放部，所述靜電釋放部為透明導(dǎo)電薄膜，且位于所述封裝層背離所述襯底基板的一側(cè)；

　　所述非顯示區(qū)包括至少一個(gè)阻隔部，所述阻隔部圍繞所述顯示區(qū)設(shè)置，所述阻隔部位于所述襯底基板和所述封裝層之間；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和所述阻隔部交疊。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機(jī)發(fā)光顯示面板還包括位于所述封裝層背離所述襯底基板的一側(cè)的觸控層，所述觸控層包括觸控電極和觸控走線；

　　所述靜電釋放部和所述觸控電極的材料相同且同層設(shè)置。

　　3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機(jī)發(fā)光顯示面板還包括封裝金屬墊，所述阻隔部包括封裝膠；

　　所述封裝金屬墊位于所述驅(qū)動(dòng)器件層，所述封裝膠位于所述封裝金屬墊背離所述襯底基板的一側(cè)；所述封裝層通過(guò)所述封裝膠和所述襯底基板貼合；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和所述封裝膠交疊。

　　4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于:

　　所述阻隔部包括擋墻；

　　所述封裝層為薄膜封裝層；所述薄膜封裝層覆蓋所述擋墻背離所述襯底基板的一側(cè)表面；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和至少一個(gè)所述擋墻交疊。

　　5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述靜電釋放部為環(huán)形且圍繞所述顯示區(qū)設(shè)置。

　　6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機(jī)發(fā)光顯示面板還包括綁定區(qū)和柔性線路板，所述綁定區(qū)包括多個(gè)焊盤(pán)，所述焊盤(pán)位于所述驅(qū)動(dòng)器件層，所述柔性線路板和所述焊盤(pán)電連接；

　　所述多個(gè)焊盤(pán)包括低電位焊盤(pán)，所述靜電釋放部和所述低電位焊盤(pán)電連接。

　　7、8、9......

　　首先，可以分析每條權(quán)利要求對(duì)應(yīng)的附圖，例如：

　　通過(guò)列出的權(quán)利要求與附圖的對(duì)應(yīng)關(guān)系表格，即可以清楚地確定不同的子類對(duì)應(yīng)的權(quán)利要求。例如，申請(qǐng)人選擇了 Species XII，其對(duì)應(yīng)權(quán)利要求有1,2,3,5…。在這種情況下，建議選擇的同時(shí)一并進(jìn)行反駁，從而在所選擇的權(quán)利要求授權(quán)之后，也可以重新加入其他未選擇的無(wú)沖突的權(quán)利要求。

　　另外，在發(fā)出和維持限制性要求方面，美國(guó)專利商標(biāo)局賦予了美國(guó)審查員很大的自由裁量權(quán)，因此對(duì)限制性要求進(jìn)行反駁爭(zhēng)辯的成功率非常低，建議申請(qǐng)人根據(jù)自身的需求選擇不同的發(fā)明/子類。對(duì)于未選擇且授權(quán)后無(wú)法重新加入的權(quán)利要求，可以選擇分案申請(qǐng)，繼續(xù)申請(qǐng)等方式來(lái)獲得保護(hù)。

　　四、總結(jié)

　　本文為筆者在實(shí)踐中的分析總結(jié)，通過(guò)案例探討了美國(guó)專利審查的限制性選擇要求，從而示出其與單一性意見(jiàn)在法律規(guī)定、評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)和應(yīng)對(duì)策略等方面的區(qū)別，希望可以為讀者在答復(fù)此類審查意見(jiàn)時(shí)給予啟發(fā)。如有不當(dāng)之處，歡迎交流指正。